電子無(wú)塵室凈化工程設(shè)計(jì)施工要求
電子無(wú)塵室是為了滿足半導(dǎo)體制造工藝需求的潔凈室,電子無(wú)塵室凈化工程對(duì)環(huán)境潔凈度、溫濕度、振動(dòng)、ESD、AMC控制等都有一定的要求。相對(duì)于其他工業(yè)潔凈室,電子無(wú)塵室有面積大、潔凈等級(jí)高、溫濕度控制精度高等特點(diǎn)。
第1種形式在小規(guī)模低等級(jí)要求的潔凈室車間設(shè)計(jì)中被廣泛應(yīng)用,對(duì)于大面積高等級(jí)的無(wú)塵室則存在運(yùn)行成本過(guò)高、占用空間過(guò)大等缺點(diǎn)。
第2種形式的設(shè)計(jì)可以滿足集成電路制造無(wú)塵室大面積高等級(jí)的要求,但運(yùn)行成本較高,并且潔凈室風(fēng)速、風(fēng)量調(diào)節(jié)困難,系統(tǒng)升級(jí)改造困難,因此操作靈活性很低。
第三種的FFU循環(huán)系統(tǒng)不僅節(jié)省運(yùn)行空間、潔凈度安全性高、運(yùn)行成本低,而且操作靈活性很高,可以在不影響生產(chǎn)的情況下隨時(shí)進(jìn)行系統(tǒng)升級(jí)和調(diào)整,這些都能很好地滿足半導(dǎo)體制造的需求,因此在半導(dǎo)體制造業(yè)FFU循環(huán)系統(tǒng)逐漸成為主要的凈化設(shè)計(jì)方案。
FFU循環(huán)系統(tǒng)的特點(diǎn)是:整個(gè)潔凈室由靜壓層、工藝層、工藝輔助層和回風(fēng)通道組成,由FFU提供循環(huán)空氣的動(dòng)力,將新風(fēng)、循環(huán)風(fēng)混合后通過(guò)超高效過(guò)濾器送入工藝層和工藝輔助層,靜壓層相對(duì)于工藝層為負(fù)壓。此外,還有生產(chǎn)輔助區(qū)為集成電路制造廠務(wù)設(shè)備區(qū)域,包括電力供應(yīng)、氣體和化學(xué)品供應(yīng)、超純水供應(yīng)等。
集成電路制造對(duì)電子無(wú)塵室環(huán)境的控制有較為嚴(yán)格的要求。不同的工藝制程對(duì)潔凈度的要求也各不相同,例如光刻要求在1級(jí)的微環(huán)境下,而化學(xué)機(jī)械研磨則只要求1000級(jí)的環(huán)境即可。
另外,集成電路制造潔凈廠房對(duì)噪聲、微振、照度等都有相關(guān)的規(guī)定和要求,尤其是振動(dòng)的控制,在潔凈室的建筑結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)上就要有所要求。
好的電子無(wú)塵室凈化工程設(shè)計(jì)不僅能節(jié)省能源、降低運(yùn)行成本、降低人力投入,而且可以給生產(chǎn)提供安全可靠的保證。在3種潔凈系統(tǒng)中,F(xiàn)FU循環(huán)系統(tǒng)運(yùn)行成本低,潔凈度安全性高,因此集成電路潔凈廠房多采用FFU循環(huán)系統(tǒng)。而潔凈度要求越高,溫濕度控制精度越高則潔凈室投資和運(yùn)行成本越高,因此在大環(huán)境潔凈度或溫濕度要求相對(duì)較低的情況下,將一些關(guān)鍵的工藝設(shè)備布置在較高潔凈度或溫濕度控制區(qū)域內(nèi)是集成電路制造潔凈廠房的設(shè)計(jì)趨勢(shì)。
集成電路制造是高能耗的產(chǎn)業(yè),而潔凈空調(diào)系統(tǒng)的能耗則占其中的30%以上,因此節(jié)能安全的潔凈室設(shè)計(jì)和各種熱能回收設(shè)計(jì)將是未來(lái)的發(fā)展方向。
隨著集成電路制造技術(shù)的不斷升級(jí),主流大廠已經(jīng)進(jìn)入了納米時(shí)代,集成電路制造潔凈廠房的設(shè)計(jì)建造和節(jié)能創(chuàng)新也需要不斷提升,為制程產(chǎn)品生產(chǎn)提供保障。
電子行業(yè)車間凈化
根據(jù)電子無(wú)塵室空氣循環(huán)特點(diǎn)可以將潔凈室分為三種類型:循環(huán)空調(diào)機(jī)配合高效送風(fēng)口系統(tǒng)、循環(huán)風(fēng)機(jī)配合濕式密封系統(tǒng)和FFU循環(huán)系統(tǒng)。
第1種形式在小規(guī)模低等級(jí)要求的潔凈室車間設(shè)計(jì)中被廣泛應(yīng)用,對(duì)于大面積高等級(jí)的無(wú)塵室則存在運(yùn)行成本過(guò)高、占用空間過(guò)大等缺點(diǎn)。
第2種形式的設(shè)計(jì)可以滿足集成電路制造無(wú)塵室大面積高等級(jí)的要求,但運(yùn)行成本較高,并且潔凈室風(fēng)速、風(fēng)量調(diào)節(jié)困難,系統(tǒng)升級(jí)改造困難,因此操作靈活性很低。
第三種的FFU循環(huán)系統(tǒng)不僅節(jié)省運(yùn)行空間、潔凈度安全性高、運(yùn)行成本低,而且操作靈活性很高,可以在不影響生產(chǎn)的情況下隨時(shí)進(jìn)行系統(tǒng)升級(jí)和調(diào)整,這些都能很好地滿足半導(dǎo)體制造的需求,因此在半導(dǎo)體制造業(yè)FFU循環(huán)系統(tǒng)逐漸成為主要的凈化設(shè)計(jì)方案。
FFU循環(huán)系統(tǒng)的特點(diǎn)是:整個(gè)潔凈室由靜壓層、工藝層、工藝輔助層和回風(fēng)通道組成,由FFU提供循環(huán)空氣的動(dòng)力,將新風(fēng)、循環(huán)風(fēng)混合后通過(guò)超高效過(guò)濾器送入工藝層和工藝輔助層,靜壓層相對(duì)于工藝層為負(fù)壓。此外,還有生產(chǎn)輔助區(qū)為集成電路制造廠務(wù)設(shè)備區(qū)域,包括電力供應(yīng)、氣體和化學(xué)品供應(yīng)、超純水供應(yīng)等。
集成電路制造對(duì)電子無(wú)塵室環(huán)境的控制有較為嚴(yán)格的要求。不同的工藝制程對(duì)潔凈度的要求也各不相同,例如光刻要求在1級(jí)的微環(huán)境下,而化學(xué)機(jī)械研磨則只要求1000級(jí)的環(huán)境即可。
另外,集成電路制造潔凈廠房對(duì)噪聲、微振、照度等都有相關(guān)的規(guī)定和要求,尤其是振動(dòng)的控制,在潔凈室的建筑結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)上就要有所要求。
好的電子無(wú)塵室凈化工程設(shè)計(jì)不僅能節(jié)省能源、降低運(yùn)行成本、降低人力投入,而且可以給生產(chǎn)提供安全可靠的保證。在3種潔凈系統(tǒng)中,F(xiàn)FU循環(huán)系統(tǒng)運(yùn)行成本低,潔凈度安全性高,因此集成電路潔凈廠房多采用FFU循環(huán)系統(tǒng)。而潔凈度要求越高,溫濕度控制精度越高則潔凈室投資和運(yùn)行成本越高,因此在大環(huán)境潔凈度或溫濕度要求相對(duì)較低的情況下,將一些關(guān)鍵的工藝設(shè)備布置在較高潔凈度或溫濕度控制區(qū)域內(nèi)是集成電路制造潔凈廠房的設(shè)計(jì)趨勢(shì)。
集成電路制造是高能耗的產(chǎn)業(yè),而潔凈空調(diào)系統(tǒng)的能耗則占其中的30%以上,因此節(jié)能安全的潔凈室設(shè)計(jì)和各種熱能回收設(shè)計(jì)將是未來(lái)的發(fā)展方向。
隨著集成電路制造技術(shù)的不斷升級(jí),主流大廠已經(jīng)進(jìn)入了納米時(shí)代,集成電路制造潔凈廠房的設(shè)計(jì)建造和節(jié)能創(chuàng)新也需要不斷提升,為制程產(chǎn)品生產(chǎn)提供保障。